Resumo
Este trabalho apresenta o desenvolvimento do controle e automação de um sistema de deposição de filmes finos por pulverização catódica assistida por radio frequência (RFMS) e com magnetrons opostos. Para controlar os sinais das fontes de potência de RF, acopladores de impedância de RF, manômetros absolutos, vacuômetros, bombas de vácuo, válvulas controladoras de gás e válvulas pneumáticas do sistema RFMS foi montada uma interface de hardware e desenvolvido um programa de controle com interface amigável para usuários, através da plataforma computacional LabView da National Instruments. O sistema de controle proposto visa aumentar a reprodutibilidade de filmes finos nanométricos de biomateriais produzidos pelo RFMS.